왜 우리가 적외선 웨이퍼 가열 방식으로 전환하는가? 솔직히 말해서, 기존의 대류식 오븐들은 엄청나게 비효율적입니다. 속도도 느리고, 크기도 커서, 웨이퍼에 닿기 전에 공기와 기계의 금속 벽을 가열하는 데 많은 에너지가 낭비됩니다. 그래서 모두가 적외선 방식으로 전환하...

와이어의 경화 과정을 올바르게 수행하기 위해서는 에너지 낭비를 막는 것이 중요합니다. 와이어를 경화시킬 때 가장 중요한 것은 열을 어떻게 조절하느냐입니다. 대부분의 경우 적외선 램프를 사용하지만, 사실 램프自체는 문제의 절반에 불과합니다. 진짜 핵심은 반사판에 있습니...

유리 조각의 낙하를 막아라: 램프가 고장났을 때 웨이퍼를 깨끗하게 유지하는 방법 반도체 제조 공장에서 램프가 고장나는 것은 단순한 문제가 아닙니다. 그것은 심각한 재앙입니다. 과도한 부하로 인해 적외선 램프가 파손되면, 단순히 생산이 중단되는 것뿐만 아니라, 석영 조...

화학적 세척을 마친 후 MEMS 센서 웨이퍼를 건조시킬 때는 매우 신중해야 합니다. 작업을 완료하기 위해서는 강력한 열이 필요하지만, 그 과정에서 가연성 용매들과 가까이 있어야 하기 때문입니다. 조금이라도 실수하면 심각한 문제가 생길 수 있습니다. 그래서 우리는 단파...

서론 우리가 이 적외선 가열 요소를 만든 이유는 단 하나입니다. 바로 반도체 웨이퍼 건조 오븐에 사용되는 원래의 부품을 대체할 수 있는 고효율적인 솔루션을 제공하기 위함입니다. 국제적으로 유명한 제품들에 비싼 비용을 지불하는 것에 지쳤다면, 동일한 성능을 갖춘 저렴한...

왜 그 0.1°C라는 미세한 차이가 웨이퍼 산화 과정에서 중요한지 웨이퍼 산화는 절대로 소홀히 할 수 없는 공정입니다. 전체 챔버에 균일한 열이 공급되어야 합니다. 만약 가열 요소가 0.1°C 이내의 온도를 유지할 수 없다면, 산화층의 두께가 고르지 않아 생산성이 저...

팹 내부에서는, 포토레지스트에 남아 있는 수분이나 웨이퍼 표면에 있는 수분이 노출 과정 이후에 웨이퍼의 치수를 망가뜨릴 수 있습니다. 이러한 수분을 제거하지 않으면 얼룩이 생기거나 에칭 잔여물이 남아서 전체 웨이퍼가 버려질 수도 있습니다. 그래서 우리는 웨이퍼의 수분...

현장에서는 사진감광액 베이크 중 0.3°C의 온도 변동만으로도 전체 로트가 폐기될 수 있다는 것을 잘 알고 있습니다. 웨이퍼 오븐용 SK15 적외선 램프는 바로 그 온도 변동이 시작되는 지점을 차단하기 위해 설계되었습니다. 열 예산을 직접적으로 제어하여 소프트 베이크...

300mm 라인에서의 웨이퍼 처리 300mm 라인에서 젖어 있는 웨이퍼는 라인 정지입니다. 남아있는 수분은 스트라이프, 입자 및 리소그래피에 도달하기도 전에 수율 손실을 초래합니다. 우리는 세척 후 빠른 건조 모듈을 구축하여 세척에서 건조로의 전환을 통제된 열 단계로...