半導体リソグラフィー用オーブンランプ

ファブ内では、フォトレジストの加熱時に0.5℃の温度変動があるだけで、ウェーハの線幅がナノメートル単位で変化してしまいます。そのため、多くのウェーハが廃棄されてしまうのです。私たちは、このような状況に対応するために、短波長の近赤外線を利用したリソグラフィー用ランプを開発しました。これにより、迅速か...