반도체 웨이퍼가 세척 과정을 거친 후에는 계측이 시작됩니다. 남아 있는 수분은 포토레지스트의 성능에 악영향을 미치거나, 웨이퍼의 품질을 저하시킬 수 있습니다. 따라서 물기를 신속하게 제거해주는 공정이 필요합니다. 이때 열에너지를 낭비하거나 불순물이 생성되어서는 안 됩니다.
핵심 요소들 저희는 석영 케이스 안에 단파 적외선을 사용하는 진공청소기식 장치를 개발했습니다. 반사기의 구조를 통해 열이 필름에 집중되도록 설계되어 있어, 조명된 영역 전체에서 온도의 편차가 ±0.1°C로 매우 일정합니다. 그 덕분에 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서 포토레지스트의 온도가 규격 내에 유지됩니다. 클린룸 환경과의 호환성도 문제없습니다. 클래스 1–100의 환경에서도 장비가 정상적으로 작동할 수 있으며, 가스 배출량도 적고, 불순물도 거의 없습니다. 수천 번의 사이클 동안에도 출력의 변동폭은 1% 이내로 유지되며, 시스템은 밀리초 단위로 설정값을 추적하여 중요한 치수들을 안정적으로 유지합니다.
포토리소그래피에서의 역할 포토리소그래피 공정에서는, 이 장비가 포토레지스트를 도포하기 직전에 표면의 수분을 제거해줍니다. 그 덕분에 표면이 건조해지는 문제나 가장자리에 물방울이 생기는 문제를 방지할 수 있습니다. 또한, 반복적인 가열 과정에서도 같은 위치에서 항상 일정한 온도가 유지되므로 Ttop과 Tbottom의 값이 변하지 않습니다. 이러한 일관성 덕분에 검증 시간이 줄어들고, 재작업도 줄어들며, 에너지 사용도 줄어듭니다. 장비의 신뢰성도 높아서, 5,000시간 이상 사용해도 출력 감소율이 5% 미만입니다. 또한, 서비스 주기도 길어져 위험도가 줄어듭니다.
주의해야 할 사항들 이 장비는 표준 SEMI 인터페이스를 사용하지만, 열 관리와 배기 과정에는 여전히 주의가 필요합니다. 석영 케이스는 기계적 충격에 약하기 때문에, 장비의 조립과 설치 시에는 지정된 토크와 정렬 방식을 준수해야 합니다. 또한, 클린룸에 적합한 전력 및 신호 케이블을 사용해야 하며, 공정에 사용되는 가스와 배기 가스가 장비의 재료 목록과 일치하는지 반드시 확인해야 합니다.