ライン上では、ウェーハが洗浄工程を経て出てきます。その時点からタイマーが動き始めます。残っている水分は、レジストの不均一な硬化やブリッジ現象として現れ、それによって歩留まりが低下します。したがって、熱負荷を増やしたり、粒子が混入したりすることなく、迅速に水分を除去する必要があります。
内部で重要なのは何か 私たちが開発した水分除去ランプは、石英製のケース内に短波長の赤外線を使用しており、反射器の形状によって熱がフィルムに集中し、キャリアには当たらないようになっています。これにより、照射エリア全体で±0.1℃の温度均一性が保たれ、ソフトベイクやハードベイクの際にもレジストの温度が規定範囲内に収まります。クリーンルームでの使用に関しても問題ありません。クラス1～100の環境下での稼働が可能で、低ガス放出性能を持つハードウェアや密閉された接続部、安定した粒子数を実現しています。何千回ものサイクルを繰り返しても出力の再現性は1％以下であり、システムはミリ秒単位で設定値を追跡し、重要な寸法を安定させます。
なぜリソグラフィーに適しているのか リソグラフィーシステムでは、ランプによってレジストを塗布する直前に表面の水分が除去されるため、デウェッティングや端の問題を避けることができます。また、ベイク工程では、毎回同じ場所に同じ温度が得られるため、TtopやTbottomの値が変動しません。このような一貫性により、試験時間が短縮され、再作業が減少し、またランプが対象領域のみを加熱するため、エネルギー消費も削減されます。信頼性としては、5,000時間以上の稼働でも出力の低下が5％未満であり、メンテナンス間隔も延長されます。
注意すべき点 このランプは標準的なSEMIインターフェースで動作しますが、組み込み時には熱的な余裕や排気路の配置に注意が必要です。石英製のケースは機械的な衝撃に弱いため、取り扱いや取り付け時には指定されたトルクや位置合わせを厳守する必要があります。また、クリーンルーム向けの電力・信号ケーブルを使用し、プロセス用のガスや排気処理の化学成分が材料リストに合致しているかを確認する必要があります。